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        雙盤(pán)金相磨拋機
        MPD-2W/2A
        產(chǎn)品介紹
        用于式樣塊的研磨拋光。臺式雙盤(pán)、萬(wàn)向水冷。 100-1450轉/分鐘無(wú)極調速+高低檔定速+正反轉。 特殊要求可以定制。
        產(chǎn)品特點(diǎn)

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        QQ圖片20220702160231.jpg

                MPD-2系列為臺式雙盤(pán)金相試樣研磨拋光機,采用整體注塑設計,密封式進(jìn)排水系統;深磨樣室,避免磨拋時(shí)冷卻水及磨拋液等外濺。具備無(wú)極調速+四檔定速功能;適用于金屬、陶瓷、巖石、電子器件等各類(lèi)樣件的精密研磨拋光。
        本機集粗磨、精密、拋光等功能與一體,更換砂紙方便快捷,具備多種磨拋盤(pán)選擇(200-300mm直徑)。滿(mǎn)足實(shí)驗的研磨拋光要求。


                                  機器型號:

        QQ截圖20181030103959.pngMPD.jpg

                               技術(shù)規格參數:

        型號

        MPD-2W

        MPD-2A

        機體形式

        臺式雙盤(pán)

        控制方式

        雙盤(pán)單控

        雙盤(pán)雙控

        轉向選擇

        雙轉向(正反轉)

        雙轉向(正反轉)

        磨盤(pán)轉速

        無(wú)極調速100-1450轉/分鐘+高低定速

        無(wú)極調速100-1450轉/分鐘+四檔定速

        主機功率

        550W

        1100W(550WX2)

        速度控制

        交流變頻器控制

        磨盤(pán)直徑

        230mm (可選配200、250、300mm等規格)

        出水噴灑

        萬(wàn)向可調

        外形尺寸

        650X550X350mm

        電源

        220V

        220V





        品質(zhì)保證無(wú)憂(yōu)售后技術(shù)支持制造技術(shù)

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